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全譜ICP光譜儀-Plasma 2000

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產(chǎn)品型號Plasma 2000 全譜ICP

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鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司

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產(chǎn)品簡介

全譜ICP光譜儀-Plasma 2000

詳細介紹

鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,重大科學(xué)儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,最懂ICP應(yīng)用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質(zhì)之選！歡迎. ：文經(jīng)理電話: 手機

儀器特點：

穩(wěn)健高效的全固態(tài)光源

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、效率高，全自動負載匹配，速度快、精度高，能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機溶劑的測試，具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設(shè)計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設(shè)計，快速定位，精確的位置重現(xiàn)。

實時監(jiān)控儀器運行參數(shù)，高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊高效可靠。

精密的光學(xué)系統(tǒng)

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，使用超純SiO₂棱鏡，高光路傳輸效率，保證了深紫外區(qū)的元素測量。

優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計，采用非球面光學(xué)元件，改善成像質(zhì)量，提高光譜采集效率。

光室多點充氣技術(shù)，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機即可測量。

光室氣路獨立，可充氮氣或氬氣。

包圍式立體控溫系統(tǒng)，保障光學(xué)系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。