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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

深圳市順心科技有限公司


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場發(fā)射掃描電鏡

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號Sigma 300/500

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地深圳市

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更新時間:2023-11-18 13:07:36瀏覽次數(shù):159次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:140條

所在地區(qū):廣東深圳市

產(chǎn)品簡介

蔡司 Sigma 系列產(chǎn)品將場發(fā)射掃描電鏡技術(shù)與良好的用戶體驗(yàn)緊密的結(jié)合在一起。利用 Sigma 直觀的4步工作流程,提高成像和分析效率。您可以用比以往更短的時間采集到更多數(shù)據(jù)。Sigma 可以搭載多種探測器,以應(yīng)對不同應(yīng)用需求:顆粒物 、表面結(jié)構(gòu)、納米結(jié)構(gòu)、薄膜樣品 、涂層及膜層等樣品成像 。讓 Sigma 系列帶您領(lǐng)略成像的世界:Sigma 300 具有非常高的性價比;Sigma 500因其*的EDS幾何設(shè)計(jì),擁有的分析性能 。無論哪種樣品 ,均可獲得精準(zhǔn)且可重復(fù)的分析結(jié)果 。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品優(yōu)勢
  • 采用靈活的探測手段獲取清晰圖像:Sigma 新的探測器技術(shù)可以滿足不同需求。表征樣品的形貌、成分及晶體結(jié)構(gòu)等。其中,Sigma 500 可選配 InLens Duo 探測器擴(kuò)展成像性能,這個探測器可同時獲取形貌和成分信息。利用新一代的二次電子探 測器 ,信號強(qiáng)度提高50%,可實(shí)現(xiàn)更高和更高分辨率的圖像。在低真空環(huán)境中,全新的 C2D 和VPSE 探 測 器,可獲取襯度提升 85% 的清晰圖像.

  • 智能高效的工作流程:Sigma 4 步工作流程就可以讓您控制所有功能。能夠快速獲取圖像、節(jié)省培訓(xùn)時間,尤 其是在多用戶環(huán)境下,其優(yōu)勢更突出 。首先 ,通過直觀的 導(dǎo)航操 作將樣品定位至 電子束下。然后,簡單點(diǎn)擊鼠標(biāo)設(shè)置樣品的成像條件。接下來 ,使用自動化智能成像標(biāo)記任意 您感興趣區(qū)域,即可在多個樣品上 自 動采集多組數(shù)據(jù)。最后,SmartBrowse查看圖像及相關(guān)分析數(shù)據(jù) ,以便全面地了解樣品信息。

  • *的分析系統(tǒng):Sigma *的 EDS幾何設(shè)計(jì)可大大提升分析性能,特別是對電子束敏 感 的樣品。您可以使用與以往相比一半的束流來獲取分析數(shù)據(jù),同時測試速度提升1倍。Sigma系列產(chǎn)品能夠提供快速、完整的X射線分析及三維重構(gòu)。將探測器靠近樣品,可獲得沒有陰影的分析結(jié)果,這得益于8.5 mm 的短分析工作距離和 35°出射角。Sigma *分析系統(tǒng),是您值得信賴的選擇 。

技術(shù)參數(shù)
型號蔡司 Sigma 300蔡司 Sigma 500
電子槍肖特基場發(fā)射電子槍肖特基場發(fā)射電子槍
30 kV 分辨率(STEM)1.0 nm0.8 nm
15 kV分辨率1.0 nm0.8 nm
1 kV 分辨率1.6 nm1.4 nm
30 kV分辨率(可變氣壓橫式)2.0 nm1.5 nm
背散射探測器(BSD)HD BSDHD BSD
掃描速度50 ns/像素50 ns/像素
加速電壓0.02-30 kV0.02-30 kV
放大倍率10-1.000.000x10-1.000.000x
探針電流3 pA-20 nA (100 nA 可選)3 pA-20 nA (100 nA 可選)
圖像處理32 k x 24 k ft ?32 k x 24 k 侈素
送口1014
EDS 端口2 (1 個專用端口)3 (2個專用端口)
?分濟(jì)率指標(biāo):系統(tǒng)驗(yàn)收時.工作距離,在1 kV和15 kV高真空條件下獲得的分辨率
真空模式
髙真空配備配備
可變壓力10-133 Pa10-133 Pa
樣品臺類型5軸電動優(yōu)中心樣品臺5軸機(jī)械優(yōu)中心樣品臺5軸電動優(yōu)中心樣品臺選件
樣品臺X軸行程125 mm130 mm125 mm
樣品臺Y軸行程125 mm130 mm125 mm
樣品臺Z軸行程50 mm50 mm38 mm
樣品臺T軸傾斜度-10-+90 度-4-+70 度-10-+90 度
樣品臺R軸位轉(zhuǎn)角度360°連續(xù)360°連續(xù)360°連續(xù)
應(yīng)用案例

典型樣品

典型應(yīng)用   

任務(wù)蔡司 Sigma 系列的性能優(yōu)勢
材料研究新型納米材料的高分辨率成像與分析Sigma 500 配合不同的探測器對納米材料進(jìn)行的表征。能夠深入分析各 料和新型材料的形貌結(jié)構(gòu)、詳細(xì)成分信息、晶體結(jié)構(gòu)和元素分布。 
涂層和薄膜的分析新型 ETSE 探測器可以在高真空模式下獲取無噴鍍非導(dǎo)電顆粒的深層次表面細(xì)節(jié)信 息。 aSTEM   探測器能夠?qū)Ρ∧そY(jié)構(gòu)和納米顆粒進(jìn)行高分辨率透射電子成像。 HDBSD   探測器可在低電壓下提供清晰的涂層成分信息。
表征各種形態(tài)的碳材料及其他  2D 材料 將高分辨率 SEM 成像和  EDS 元素分析與拉曼顯微成像技術(shù)組合,分析石墨烯層、C60 的性質(zhì)、碳納米管( CNT)純度和類金剛石鍍膜。表征碳或其他 2D 材料中的缺陷、位錯和應(yīng)力信息。 
聚合物材料的成像與分析使用   SEM   和拉曼關(guān)聯(lián)顯微鏡技術(shù)區(qū)分不同類型的聚合物。分析纖維和聚合物中的應(yīng)力。利用高襯度圖像和拉曼光譜圖像測定聚合物的結(jié)晶度。
研究電池的老化效應(yīng)并改進(jìn)電學(xué)性能結(jié)合 SEM  高分辨率成像與  EDS  元素分析對電池的陰極材料進(jìn)行研究, 并利用   Raman  光譜成像對陽極材料進(jìn)行分析。獲取有關(guān)碳陽極、聚合物隔膜、金屬氧化物和電解質(zhì)的全        面信息。確保不能暴露在空氣中的樣品始終放置在 SEM 真空樣品室內(nèi)。 
生命科學(xué)冷凍生物樣品的高分辨率成像和高性能分析使用 aSTEM 探測器對細(xì)胞超微結(jié)構(gòu)成像。 C2D 探測器可為電子束敏感型精細(xì)生物樣品提供清晰的圖像。
生物材料的研究,牙齒、骨骼等生物材料及含膠原蛋白的生物聚合物, 如頭發(fā)通過*的 VP 模式或使用低電壓方法,研究無鍍膜不導(dǎo)電生物材料。拉曼成像技術(shù)可對各種生物材料進(jìn)行表征分析,如貝殼、珍珠、骨骼和牙齒結(jié)構(gòu),或指甲和頭發(fā)等生物聚合物。 

地質(zhì)學(xué)

礦物學(xué)  

材料和巖石的全面分析 將高分辨率  SEM  圖像和    EDS  元素分析與拉曼光譜成像組合來識別多晶型礦物。表征巖段中顆粒度和相分布,區(qū)分有機(jī)和無機(jī)材料。 
自然資源   快速準(zhǔn)確地檢測巖芯礦物樣品Sigma 能夠在可變氣壓模式下對非導(dǎo)電地質(zhì)樣品進(jìn)行成像和高速分析。
使用 HDBSD 探測器可得到頁巖和礦物的高清成分?jǐn)?shù)據(jù)。兩個相對放置的  EDS 探測器能以 2 倍的速度探測成分相關(guān)的 X 射線數(shù)據(jù)。 
為公共實(shí)驗(yàn)室提供高通量解決方案得益于樣品室的幾何設(shè)計(jì),一次可同時容納 16 個樣品。
用于物相區(qū)分的關(guān)聯(lián)分類使用拉曼光譜關(guān)聯(lián)化學(xué)分析結(jié)果來辨別多晶體。
工業(yè)應(yīng)用材料和制造組件的失效分析Inlens    二次電子探測器可以輕松獲取失效的工程微結(jié)構(gòu)和微電子機(jī)械系統(tǒng)裝置的高分辨率形貌信息。 
使用 HDBSD 探測器進(jìn)行精加工組件的 3D 表面測量。高襯度 HDBSD 成像能夠讓您分析和確定引起斷裂與缺陷的原因。 
鋼和金屬的成像與分析即使是大體積樣品也能夠使用笛卡爾樣品臺進(jìn)行分析。借助原位等離子清洗技術(shù)保持高質(zhì)量圖像,并使用 AsB 獲取晶體和通道襯度。HDBSD 讓非金屬夾雜物辨識更簡單。
檢驗(yàn)科研Sigma 系列能用于檢查支架和外科模膏的結(jié)構(gòu)與涂層。在可變壓力模式下,新型 C2D 探測器可以完成涂層瑕疵的低噪聲高清晰度成像。 
在過程控制和診斷中表征半導(dǎo)體和電子設(shè)備Sigma 500 的大型樣品交換室能夠快速裝載 5 英寸晶圓。使用 Inlens Duo 探測器獲取 多層器件的高倍成分與形貌圖像。 
在高真空模式下,使用性能增強(qiáng)的新型ETSE探測器在低電壓下獲取半導(dǎo)體設(shè)備的詳細(xì)信息。
對半導(dǎo)體材料和器件進(jìn)行   Raman  表征使用SEM與共聚焦拉曼成像關(guān)聯(lián),以高分辨檢測應(yīng)力、應(yīng)變和晶體結(jié)構(gòu)類型或取向并辨別缺陷。 

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