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1600℃真空管式氣氛爐

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產(chǎn)品型號HGK系列真空管式氣氛爐（1600℃ ）

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更新時間：2024-11-29 12:00:09瀏覽次數(shù)：69次

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上海環(huán)試電子科技有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：84條

所在地區(qū)：上海上海

聯(lián)系人：姜玉海

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產(chǎn)品簡介

HGK1600℃真空管式氣氛爐的詳細(xì)資料：這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預(yù)抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）

詳細(xì)介紹

HGK1600℃真空管式氣氛爐的詳細(xì)資料：
這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預(yù)抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點(diǎn)。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。

高真空管式爐	爐管尺寸	外徑Φ60×1000mm,Φ80×1000mm,Φ100×1000mm
	極限溫度	1600 ℃
	工作溫度	800 -1500 ℃
	溫度控制器	PID自動控制晶閘管（可控硅）輸出功率， 50段可編程控制器
	升降溫速率	1400℃以下≤10℃/min，1400℃到1600℃≤5℃/min
	加熱區(qū)	360mm
	恒溫區(qū)	150mm
	溫度精度	±1 ℃
	電源	單相220V,交流50Hz
多通道流量計控制系統(tǒng)	標(biāo)準(zhǔn)量程	100，200 ，500，1000SCCM；（以氮?dú)鈽?biāo)定，除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選）
	準(zhǔn)確度	±1.5%
	工作壓差范圍	0.01～0.05 MPa
	壓力	0.02MPa
	接頭類型	Φ6雙卡套不銹鋼接頭
高真空系統(tǒng)	泵體積流量N₂	33 L/S
	壓縮比	10:11
	實驗真空值	6.710-3Pa（8.010-4Pa）
	功率消耗	140W
	啟動時間	2min
	電源要求：	185-265VAC